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浙江奥首材料科技申请涂布工艺通用型等离子体切割保护液专利 可获得均匀致密的保护膜层:离子膜烧碱
金融界2025年8月8日消息，国家知识产权局信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种涂布工艺通用型等离子体切割保护液、其制备方法及应用”的专利，公开号CN120442138A，申请日期为2
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大力储能申请离子膜裁切剥膜一体化装置专利，实现保护膜与离子膜本体的异步处理:离子膜烧碱
金融界2025年7月21日消息，国家知识产权局信息显示，大力储能技术湖北有限责任公司申请一项名为“一种离子膜裁切、剥膜一体化装置”的专利，公开号CN120328242A，申请日期为2025年05月离子
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